Meldungen
Publikationsnummer: HR02-1005797579, Handelsregister-Amt Zürich, (20)
HeiQ Materials AG, in Schlieren, CHE-112.274.504, Aktiengesellschaft (SHAB Nr. 44 vom 03.03.2023, Publ. 1005691939).
Ausgeschiedene Personen und erloschene Unterschriften:
Nassl, Walter, deutscher Staatsangehöriger, in Affing (DE), Direktor, mit Kollektivunterschrift zu zweien;
Vermeersch, Lode, belgischer Staatsangehöriger, in Müllheim (DE), Direktor, mit Kollektivunterschrift zu zweien;
Salathe, Ralph, deutscher Staatsangehöriger, in Freiburg (DE), Vizedirektor, mit Kollektivunterschrift zu zweien;
Kerner, Tobias, deutscher Staatsangehöriger, in Zürich, mit Kollektivunterschrift zu zweien;
Schweizer, Nicolas Martin, von Basel, in Neerach, mit Kollektivunterschrift zu zweien.
Publikationsnummer: 2760177, Handelsregister-Amt Aargau, (400)
HeiQ Materials AG, in Bad Zurzach, CHE-112.274.504, Aktiengesellschaft (SHAB Nr. 89 vom 11.05.2015, Publ. 2145903).
Eingetragene Personen neu oder mutierend:
Vermeersch, Lode, belgischer Staatsangehöriger, in Müllheim (DE), Direktor, mit Kollektivunterschrift zu zweien [bisher: ohne eingetragene Funktion, mit Kollektivunterschrift zu zweien];
Salathe, Ralph, deutscher Staatsangehöriger, in Freiburg (DE), Vizedirektor, mit Kollektivunterschrift zu zweien.
Publikationsnummer: 7178562, Handelsregister-Amt Aargau, (400)
HeiQ Materials AG, in Bad Zurzach, CHE-112.274.504, Aktiengesellschaft (SHAB Nr. 209 vom 26.10.2012, Publ. 6906544).
Statutenänderung:
19.04.2013.
Aktienkapital neu:
CHF 1'945'525.00 [bisher: CHF 1'910'690.00].
Liberierung Aktienkapital neu:
CHF 1'945'525.00 [bisher: CHF 1'910'690.00].
Aktien neu:
389'105 vinkulierte Namenaktien zu CHF 5.00. [bisher: 382'138 vinkulierte Namenaktien zu CHF 5.00]. Bedingte Kapitalerhöhung gestützt auf den Gewährungsbeschluss vom 11.11.2008 gemäss Statuten.
Eingetragene Personen neu oder mutierend:
Brandenberg, Peter, von Zug, in Horw, Präsident des Verwaltungsrates, mit Kollektivunterschrift zu zweien [bisher: Mitglied des Verwaltungsrates mit Kollektivunterschrift zu zweien];
Carrick, Richard, schwedischer Staatsangehöriger, in Stockholm (SE), Mitglied des Verwaltungsrates, mit Kollektivunterschrift zu zweien [bisher: Präsident des Verwaltungsrates mit Kollektivunterschrift zu zweien];
Bender, Walter, von Bauma, in Rheinfelden, mit Kollektivunterschrift zu zweien;
Vermeersch, Lode, belgischer Staatsangehöriger, in Müllheim (DE), mit Kollektivunterschrift zu zweien;
Odenwald, Nina, deutsche Staatsangehörige, in Bad Zurzach, mit Kollektivunterschrift zu zweien.